|   
    职责描述:1.公司新项目光刻制程开发,问题解决及改进,以利项目顺利导入;
 2.通过DOE实验设计进行光刻工序工艺能力的提升及探索;
 3.光刻工序单站良率的提升;
 4.光刻站各工序特性指标监控,以确保工序稳定;
 5.工序问题点的整理汇总并制定计划有效解决;
 6.光刻工序所需直间接材料的开发与导入;
 7.新设备的验证导入。
 
 任职要求:
 1.大专及以上学历;
 2.熟悉光刻工艺制造流程,5年以上半导体封装光刻工艺工作经验(此为必须项);
 3.善于利用各种统计分析软件对数据进行分析;
 4.能熟练应用DOE手段进行工艺条件的探索;
 5.良好的逻辑思维和沟通协调能力。
 |